重庆理工大学学报（自然科学）

重庆理工大学学报（自然科学） ›› 2021, Vol. 35 ›› Issue (4): 103-110.doi: 10.3969/j.issn.1674-8425(z).2021.04.014

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高磁感取向硅钢研究开发的关键工艺及其研究进展

杨明波１，谭 磊１，李上民１，胡 捷１，邹 红２，熊必润２，张 驰１   

  1. １．重庆理工大学 材料科学与工程学院，重庆 ４０００５４； ２．重庆望变电气（集团）股份有限公司，重庆 ４０１２２０
  • 收稿日期:2020-09-15 出版日期:2021-05-10 发布日期:2021-05-10
  • 作者简介:杨明波，男，博士，教授，主要从事先进金属材料及其成形技术的研究，Ｅｍａｉｌ：ｙａｎｇｍｉｎｇｂｏ＠ｃｑｕｔ．ｅｄｕ．ｃｎ；通讯 作者 谭磊，男，硕士研究生，主要从事先进金属材料及其成形技术的研究，Ｅｍａｉｌ：７４２１８４２３９＠ｑｑ．ｃｏｍ。
  • 基金资助:
    重庆市技术创新与应用发展专项项目(cstc2019jscx-fxydX0082)

  • Received:2020-09-15 Online:2021-05-10 Published:2021-05-10

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摘要： 综述了高磁感取向硅钢在稀土微合金化设计?抑制剂形成?渗氮处理?表面绝缘涂 层和激光刻痕等关键工艺的研究现状及取得的最新进展,讨论了目前这些关键工艺环节研究还 存在的问题,最后指出了高磁感取向硅钢关键工艺环节研究未来的发展思路,尤其指出需要加 强激光刻痕技术与表面涂层技术的有机结合?

关键词: 高磁感取向硅钢, 稀土微合金化, 抑制剂, 渗氮处理, 表面涂层和激光刻痕

中图分类号: 

  • TG142.1